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日期： 8月 20, 2010

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滾印技術於光學膜相關應用 (Roll-to-Roll Technology on optical film appication)

陽極氧化鋁之抗反射模板藉由 A4 大小之陽極氧化鋁模板製作技術為基礎，將於明年擴大抗反射模板尺寸到 50 公分，其抗反射達 1 以下、穿透率達 90% 以上，本技術將可應用於手機與 LCD TV 螢幕的表面，減少使用時光線反射造成的不便，並且結合使用於太陽能板，增加光穿透率亦可提升太陽能板之效能。利用陽極氧化鋁模板具有次波長結構的特殊抗反射光學特性，可應用於觸控面板與 LCD 螢幕的表面，減少使用時光線反射造成的不便，過去本實驗室之研究平板大最面積（ 297mm × 210mm ）的陽極氧化模板進行研究，研究三種不同方式進行陽極處理，分別為純鋁箔模板、濺鍍鋁於玻璃基板與高純度鋁靶材，發現以高純度鋁靶材之基材進行轉印其效果為最佳，但因平板轉印之速率無法像連續轉印快速，製作一片抗反射光學膜所耗的時間較長，而製作面積也受機臺大小限制，轉印多次光學膜時，模板易產生變形之問題。滾印技術應用故本研究目的將以製作大面積之陽極氧化鋁（ AAO ）滾筒，結合滾對滾（ Roll-to-Roll ）奈米壓印技術於 PET 基板上轉印出具高規則性次微米結構，此結構將具有光學抗反射性質，並進一步探討結構在光學性質上的影響。可製備高規則性之次微米結構，此方法相較於滾對板（ Roll-to-Sheet ）製程可以有效的降低成本及增加產量。此外以奈米等級滾對滾轉印製程於微結構的轉印，具有低成本、高效率與大面積等優點。軟性 OLED 照明技術開發 (Technology of Flexible OLED lighting by metal mesh) 金屬網格製作技術滾印技術製作多層堆疊的金屬網格細線，利用紫外光固化滾印製程製作金屬網格 (Metal Mesh) 凹槽，獲得具高透明度之導電薄膜，解決現有製程上的缺點並且符合可控制線寬、製程快、成形率佳及低成本等優點。在軟性電子技術的開發中，軟性透明導電材料是極為關鍵的核心技術。為了兼顧可撓性、導電度與光學穿透率，無氧化銦錫 (ITO) 的導電材料開始引起注目，但其導電度也已不足以維持均一光源。因此，開始出現新型可撓曲的金屬或有機高分子材料搭配輔助電極的形式。本研發技術將開發新型，以滾印技術 - 滾對板紫外光固化設備及軟模技術製作出金屬網格薄膜之製

莊承鑫教授介紹

中山大學莊承鑫 Dr. Cheng-Hsin Chuang ➤ 國立中山大學醫學科技研究所 307 室 ⚑886-7-5252000 ex 5785 ✐ chchuang@imst.nsysu.edu.tw ➤ 學歷國立成功大學土木工程博士 (Ph.D., Civil Engineering, National Cheng Kung University) 國立成功大學土木工程碩士 (MS, Civil Engineering, National Cheng Kung University) ➤經歷國立中山大學醫學科技研究所教授兼任所長 (Professor/Chair, Institute of Medical Science and Technology, National Sun Yat-sen University) 南臺科技大學機械工程系特聘教授 (Distinguished Professor, Department of Mechanical Engineering, STUST) 南臺科技大學軟性光電滾印中心主任 (Director of Roll-to-Roll Imprinting Center for Flexible OptoElectronics, Department of Mechanical Engineering, STUST) 南臺科技大學機械工程系教授 (Professor, Department of Mechanical Engineering, STUST) 南臺科技大學機械工程系副教授 (Associate Professor, Department of Mechanical Engineering, STUST) 南臺科技大學機械工程系助理教授 (Assistant Professor, Department of Mechanical Engineering, STUST) 工業技術研究院電子工業研究所工程師 (Engineer, Institute of Electronics, Industrial Technology Research Institute) 國立成功大學微奈米科技研究中心博士後研究員

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