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Micro and Nano Sensing Technology Lab

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[邀請演講]-參加台灣軟性混合電子技術論壇會議

日期： 12月 18, 2018

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陽極氧化鋁之抗反射模板藉由 A4 大小之陽極氧化鋁模板製作技術為基礎，將於明年擴大抗反射模板尺寸到 50 公分，其抗反射達 1 以下、穿透率達 90% 以上，本技術將可應用於手機與 LCD TV 螢幕的表面，減少使用時光線反射造成的不便，並且結合使用於太陽能板，增加光穿透率亦可提升太陽能板之效能。利用陽極氧化鋁模板具有次波長結構的特殊抗反射光學特性，可應用於觸控面板與 LCD 螢幕的表面，減少使用時光線反射造成的不便，過去本實驗室之研究平板大最面積（ 297mm × 210mm ）的陽極氧化模板進行研究，研究三種不同方式進行陽極處理，分別為純鋁箔模板、濺鍍鋁於玻璃基板與高純度鋁靶材，發現以高純度鋁靶材之基材進行轉印其效果為最佳，但因平板轉印之速率無法像連續轉印快速，製作一片抗反射光學膜所耗的時間較長，而製作面積也受機臺大小限制，轉印多次光學膜時，模板易產生變形之問題。滾印技術應用故本研究目的將以製作大面積之陽極氧化鋁（ AAO ）滾筒，結合滾對滾（ Roll-to-Roll ）奈米壓印技術於 PET 基板上轉印出具高規則性次微米結構，此結構將具有光學抗反射性質，並進一步探討結構在光學性質上的影響。可製備高規則性之次微米結構，此方法相較於滾對板（ Roll-to-Sheet ）製程可以有效的降低成本及增加產量。此外以奈米等級滾對滾轉印製程於微結構的轉印，具有低成本、高效率與大面積等優點。軟性 OLED 照明技術開發 (Technology of Flexible OLED lighting by metal mesh) 金屬網格製作技術滾印技術製作多層堆疊的金屬網格細線，利用紫外光固化滾印製程製作金屬網格 (Metal Mesh) 凹槽，獲得具高透明度之導電薄膜，解決現有製程上的缺點並且符合可控制線寬、製程快、成形率佳及低成本等優點。在軟性電子技術的開發中，軟性透明導電材料是極為關鍵的核心技術。為了兼顧可撓性、導電度與光學穿透率，無氧化銦錫 (ITO) 的導電材料開始引起注目，但其導電度也已不足以維持均一光源。因此，開始出現新型可撓曲的金屬或有機高分子材料搭配輔助電極的形式。本研發技術將開發新型，以滾印技術 - 滾對板紫外光固化設備及軟模技術製作出金屬網格薄膜之製...

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